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  1. ①新款升級為采用平場消色差光學系統和落射式柯拉照明系統,落射照明系統中設計防反射結構,有效防止反射光干擾成像光線,從而使升級款成像更清晰、視場襯度更好。②工作臺、光強與粗微調的低位操作,使用更舒適

  2. ①新款升級為采用平場消色差光學系統和落射式柯拉照明系統,落射照明系統中設計防反射結構,有效防止反射光干擾成像光線,從而使升級款成像更清晰、視場襯度更好。②工作臺、光強與粗微調的低位操作,提高了使用的舒…

  3. 廣泛應用于應用于教學科研金相分析、半導體硅晶片檢測、地址礦物分析、精密工程測量等領域。也可應用于電子、光纖、紡織、印刷及微顆粒、粉末、同時也可用于食品安全評估、醫學研究地質研究等。是科研、教學、生產的…

  4. 廣泛應用于應用于教學科研金相分析、半導體硅晶片檢測、地址礦物分析、精密工程測量等領域。也可應用于電子、光纖、紡織、印刷及微顆粒、粉末、同時也可用于食品安全評估、醫學研究地質研究等。是科研、教學、生產的…

  5. 在整個光學系統內,對涉及成像質量的所有組件高級配置,采用先進的無限遠雙重色差校正光學技術;適用于金屬鋼鐵,化工材料行業科研,質檢和質控部門等研究,反射光可實現明場,暗場,偏光,微分干涉,熒光觀察功能,透射光可實…

  6. 適用于金屬鋼鐵,化工材料行業科研,質檢和質控部門等研究,反射光可實現明場,暗場,偏光,微分干涉,熒光觀察功能,透射光可實現明場,暗場,偏光,微分干涉觀察功能,可接CCD相機配合圖像分析軟件進行材料分析。

  7. 全新研發豪華配置12XB-PC,搭配U-DICR微分干涉組件,可以將明場觀察下無法檢測的細微高低差,轉化為高對比度的明暗差并以立體浮雕形式表現出來,如LCD導電粒子,精密磁盤表面劃痕等。

  8. 4XC對于外形不規則或較大的試樣也可進行顯微鏡觀察,倒置式的儀器設計,操作時試樣觀察表面向下,并與工作臺面重合,而對試樣的高度和平行度無要求,適合于外形不規則或較大的試樣。

  9. WF10X(Φ22)大視野目鏡,平場無限遠系統金相物鏡。①采用了反射和透射兩種照明形式,并配有偏光裝置。②在反射光照明下可進行明暗場和偏光觀察,又可在透射光照明下作明場觀察。③可選配攝影裝置…

  10. 作為高級科研型金相顯微鏡,是針對半導體工業、硅片制造業、電子信息產業、冶金工業開發的,可用來鑒別和分析各種金屬和合金的組織結構,可廣泛應用在工廠或實驗室進行鑄件質量的鑒定、原材料的檢驗或對材料處理后金…

  11. 便攜式金相顯微鏡由于自帶垂直照明光源,可以很方便的用于現場或無法制作試樣時鑒別各種金屬和合金的組織結構可廣泛的應用在工廠,實驗室進行鑄件質量的鑒定,原材料檢驗或對材料處理后金組織的研究分析等工作,也可…

  12. 便攜式金相顯微鏡由于自帶垂直照明光源,可以很方便的用于現場或無法制作試樣時鑒別各種金屬和合金的組織結構可廣泛的應用在工廠,實驗室進行鑄件質量的鑒定,原…

  13. 4XB金相顯微鏡用于鑒別和分析各種金屬和合金的組織結構,可廣泛應用在工廠或實驗室進行鑄件質量的鑒定,原材料的檢驗或對材料處理后金相組織的研究分析等。

  14. 4XI金相顯微鏡用于鑒別和分析各種金屬和合金的組織結構,可廣泛應用在工廠或實驗室進行鑄件質量的鑒定,原材料的檢驗或對材料處理后金相組織的研究分析等。

  15. 正置金相顯微鏡具有透、反二用功能,可作為金相、生物二用顯微鏡,用于觀察金屬、硅片等反射標本的表面結構??稍詮た笫笛槭醫薪鶚舨牧現柿考煅?,金屬零件處理后的金相組織分析

  16. 正置金相顯微鏡具有透、反二用功能,可作為金相、生物二用顯微鏡,用于觀察金屬、硅片等反射標本的表面結構??稍詮た笫笛槭醫薪鶚舨牧現柿考煅?,金屬零件處理后的金相組織分析

  17. 正置(明暗場)芯片檢查顯微鏡廣泛的應用于透明,半透明或不透明物質,比如金屬陶瓷、電子芯片、印刷電路、LCD基板、薄膜、纖維、顆粒狀物體、鍍層等材料表面的結構、痕跡,都能有很好的成像效果。

  18. 產品用途大平臺檢測顯微鏡是專為IT行業大面積集成電路,晶片的質量檢測而設計開發制造的,主體為正置式,三目鏡筒,比傳統的顯微鏡更適合于觀察。適用于電子、機械、化工、科研、院校等部門,以及金相技術檢驗、失效…

  19. 102XB工業金相顯微鏡是針對半導體工業、硅片制造業、電子信息產業、冶金工業需求而開發的。作為高級金相顯微鏡用戶在使用時能夠體驗其超強性能,可廣泛應用于半導體、FPD、電路封裝、電路基板、材料、鑄件/金屬/陶瓷…

  20. 9XB正置金相顯微鏡屬中型金相顯微鏡。本儀器造型新穎、性能良好、使用方便可靠,可供工廠、高等院校、科研機構及電子工業部門作金相、礦相、晶體、微電子等方面的試驗與分析研究之用。

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